该清洗线应用于低温多晶硅玻璃清洗，对玻璃基板进行第一次清洗及干燥的加工处理。
清洗玻璃基板尺寸：1100mm×1400mm δ0.3～3mm
基板传递方向：操作界面从左到右
处理时间：标准17秒/片 标准运送速度 约1.8m/min
基板水平基准：地面至基板下面1000mm
非晶硅玻璃基板清洗设备
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非晶硅玻璃基板清洗设备
详细信息 该清洗线应用于低温多晶硅玻璃清洗，对玻璃基板进行第一次清洗及干燥的加工处理。
清洗玻璃基板尺寸：1100mm×1400mm δ0.3～3mm 基板传递方向：操作界面从左到右 处理时间：标准17秒/片 标准运送速度 约1.8m/min 基板水平基准：地面至基板下面1000mm |