应用领域
RCVD系列真空气氛管式炉广泛用于高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制,试验用碳纤维碳化、晶体硅板镀膜、纳米氧化锌结构可控生长等等,也可用于金属材料的扩散焊接及真空或气氛保护下的热处理。
主要特点
采用精炼石英管或高纯高于管作为炉膛,可拆卸的密封方式,具有良好的洁净度和真空度,耐火保温材料全部采用先进的轻质纤维制品,整机质量轻、低能耗。加热元件采用优质硅钼棒、硅碳棒或进口电阻丝;温度控制系统采用原装进口智能多段程序温度控制仪控制,具有良好的稳定性、均匀性。
管式炉
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详细信息 应用领域
RCVD系列真空气氛管式炉广泛用于高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制,试验用碳纤维碳化、晶体硅板镀膜、纳米氧化锌结构可控生长等等,也可用于金属材料的扩散焊接及真空或气氛保护下的热处理。 主要特点 采用精炼石英管或高纯高于管作为炉膛,可拆卸的密封方式,具有良好的洁净度和真空度,耐火保温材料全部采用先进的轻质纤维制品,整机质量轻、低能耗。加热元件采用优质硅钼棒、硅碳棒或进口电阻丝;温度控制系统采用原装进口智能多段程序温度控制仪控制,具有良好的稳定性、均匀性。 |