“我们很高兴今天能够获得创新奖。”在颁奖典礼结束后，Nanoscribe首席执行官Martin Hermatschweiler强调说。“在经历了密集紧张的技术开发阶段后，这奖项对我们团队和QuantumX的出色表现来说都是一个非常好的认可。”Martin Hermatschweiler说道。
Quantum X 新型超高速无掩模光刻技术的核心是Nanoscribe独家专利的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的卓越性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺大大缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。
