典奥推出C.WASH新微孔板样品处理解决方案

1. 优异的清洗效果

液体残留少（＜0.1μL），轻松提升信噪比，降低背景信号，因此可以提高实验的稳定性和成功率。并且信噪比的显著提升可以带来整体实验体积的缩小，减少试剂的使用量，降低实验成本。

2. 更加科学的清洗方式

采用非接触式注液，反向离心方式移除清洗，杜绝传统Tip-based washer引起的交叉污染问题，也可避免传统方法对板底细胞的损伤。

3. 高效、快速

C.WASH清除整个96、384和1536微孔板只需数秒时间 ，有效节省了时间，从而缩短整体项目周期。
 

C.WASH用户界面

并且C.WASH软件界面设计直观，简洁易用，用户可以在系统自带的程序中选择不同的洗板模式来实现液体残留的简单控制，其自动化功能可显著提升实验效率。SiLA2接口的完善通信支持与API集成，而且与第三方控制软件相兼容。

 

全自动进行基于磁珠的DNA纯化

PCR产物的DNA纯化是NGS文库制备过程中的关键步骤，纯化低浓度DNA样品常用的方法是使用固相载体可逆化固定法（SPRI）。然而这个过程中磁珠清理经常是手动执行的，这在自动化工作流程中是一个需要突破的瓶颈。

磁珠的手动清洗繁琐耗时，一次实验需要消耗几百个枪头，清洗的效果在很大程度上还依赖于移液管的质量，这可能会导致样品之间存在差异。

而C.WASH在关键洗涤步骤比传统纯化快5倍，同时不需要移液步骤，为基于磁珠的DNA纯化提供了一个快速和自动化的工作流程，不仅可以简化NGS库准备工作流程，还能确保结果一致。

此外，C.WASH的残余体积<0.1µL/孔，因此仅需一个清洗循环即可获得与两个手动清洗步骤效果相当的纯化样品，从而进一步缩短了处理时间。