PE-100 RIE等离子刻蚀机

品牌：PlasmaEtch
产地：美国

仪器介绍      
Plasma Cleaner为单一制程处理腔体，使用先进之平板式电浆技术，与整合型
多重电浆源机构所设计的电浆制程机台，适用于各种干式清洁与表面处理制程，以及残留光阻去除等制程应用。在半导体与光电产业之干式电浆制程中提供高驾动率、低营运成本之特性。台式小型机，PLC人机自动控制，简单易用，适用于实验室及小批量工业生产中材料表面清洗、蚀刻、活化等工艺。

提供三种功能配置：
1. 常规的等离子清洗和等离子刻蚀
2. 反应离子刻蚀（RIE）
3. 可转换结构（包含可以进行各向同性和各向异性的等离子工艺）可拆卸的托盘构造。

等离子刻蚀机技术参数：
设备型号：PE-100
腔体尺寸：长方形腔体，长度305 x深度368 x高度305mm；
腔体材质：T-6铝合金一体成型；
腔体容积：34升；
射频电源：13.56MHz；0~300W自动调节；
工作压力范围：1-2000 mT；
气体流量控制：0-50cc/min带精密针阀；
皮拉尼真空计： 0-1Torr；