用途:
该X射线晶体分析仪,主要用于研究物质内部微观结构。如:单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力等。
主要参数:
电 源:AC220V 50HZ 30A
功 率:2KW
靶 材:Cu(可选其他靶材)
管电压:50KV(分档可调)
管电流:50mA(分档可调)
稳定度:±1%
保 护:过功率、过电压、过电流、无水
冷 却:循环水、制冷水箱
防 护:铅有机玻璃防护罩
相 机:
a)德拜相机(粉沫相机)大、小两种
b)劳厄相机(平板相机)
上述两种相机,用户可自选配置
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