脱膜湿法刻蚀设备

功能及用途说明：主要用于（1）利用强酸氢氟酸，磷酸，硝酸，盐酸，冰醋酸等及其酸混合物对金属的溶解或者氧化还原反应过程，实现金属膜的图案化；（2）通过剥离液和光刻胶的化学反应，使光刻胶膨胀软化并溶解；（3）处理完后基片清洗与干燥。基本功能：实现低温多晶硅工艺中ITO,Al,Cr,Mo,SiO2,IGZO等膜的图案化和光刻胶的剥离以及接下来玻璃基板清洗干燥。

玻璃镀膜前清洗设备
主要用于：低温多晶硅玻璃镀膜前清洗，去除玻璃表面有机油污，颗粒等，提高基板表面的浸润性。
基本功能：将花篮盒内的玻璃基板，经过上料装置一片一片传送出去，由传送装置传递，经过洗剂喷淋、轮刷刷洗、纯水高压喷淋、超声波清洗后至风干工艺和UV清洗舱后，最后由下料装置将基板装入花篮盒。