半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机

半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机 
品牌：《南轩电子》适用于去除硅晶圆片工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。设备由清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机部分组成。清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。关键件均采用进口原件，包括气动阀，PFA管道，全氟循环系统等，保证工作介质（酸、碱）的洁净度，避免杂质析出。 整体采用德国进口工程塑料焊接组合加工而成，结构合理，外型美观。工艺过程全自动，机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制，可存储多条工艺时序，方便使用。 人机界面为触摸屏，方便直观，操作简便。.除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可自动完成。设备适用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验湿台、腐蚀台。非标规格，具体规格依客户工艺确定。有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：马胜南15010795119，010-52103382。

微电子实验室用净化存储通风柜
品牌：《南轩电子》为高洁净度通风保管柜，适用于半导体生产工艺过程中存放成品、半成品和材料等 。2.本设备主要由高效空气过滤 、通风机、电器控制系统、柜体、门等组成。3.柜体采用银白色喷砂电泳铝材作框架，拉丝不锈钢材料作面板，外形美观。4.工作区全部为拉丝不锈钢板， 四层搁架牢固可靠，前面安装有染色有机玻璃门5.主要指标：(1).净化级别：100级(2).平均风速（m/s）：0.25—0.45 (3).工作区尺寸920×350×1315mm(宽 ×深×高) (4.)外形尺寸1000×815×1850 mm(宽×深×高) (5).气流状态：气流为水平单向流，送风机具备两档转速，开门时，高速运行，平时低速运行。(6).振动：X、Y、Z方向≤5цm (7).噪声：≤64分贝马胜南15010795119，010-52103382。
半导体单晶圆片蒸发清洗线
品牌：《南轩电子》适用于微电子半导体各尺寸硅晶圆片的清洗腐蚀，整体设备用料为德国进口磁白色聚丙烯（PP），经雕刻后组合焊接加工而成，门板采用德国透明聚氯乙烯（PVC）；腐蚀槽采用德国自然色聚偏二氟乙烯（PVDF）；清洗槽采用德国自然色聚丙烯板（NPP）；关健部件采用进口原器件。设备的腐蚀槽和清洗槽间的转换由进口SEW驱动，以迅速实现槽与槽之间的硅片转换。另外，此设备腐蚀槽还配有美国聚四氟乙烯加热器、虹吸上排、传感器。清洗槽配有溢流装置，和N2鼓泡装置。适用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验湿台、腐蚀台。非标规格，具体规格依客户工艺确定。有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：马胜南15010795119，010-52103382。