ZEPTO等离子清洗机

品牌：Diener
产地：德国 
ZEPTO等离子清洗机可应用于哪些方面？
ZEPTO等离子清洗机可应用于以下方面：粘结材料或者按照您的需求改变表面特性。通过这种先进的技术，可以对各种表面作出修改。
蚀刻和去除部分诸如聚四氟乙烯，光刻胶等之类的各种材料。
对具有类似聚四氟乙烯涂层、阻隔涂层、疏水性和亲水性涂层、减摩擦涂层等的部件进行喷涂处理。

vZEPTO等离子清洗机的应用范围： 
* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。 
* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
* 清洗半导体元件、印刷线路板。
* 清洗生物芯片、微流控芯片。
* 清洗沉积凝胶的基片。
* 高分子材料表面修饰。
* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 
小型等离子清洗机 - 低成本等离子处理设备
等离子清洗 - 等离子刻蚀 - 等离子去胶 - 等离子活化
ZEPTO等离子清洗机以体积小、成本低、操作简便等特点广泛应用于科研及小批量生产场合

ZEPTO等离子清洗机
反应室尺寸：玻璃反应舱Ø 105 mm，L 300 mm
反应室容积：约 2,6 公升
气体供应：针阀控制型，双气体通道
射频发生器：40kHz/100W或13,56 MHz/ 50W
真空泵：抽气速率: 2 m³/h 
托盤：1 件
控制方式：手动，计时器控制制程时间