本真空冶金炉由主体反应炉(带冷凝收集器)、真空系统、电控柜及相关联接组成。
主体反应炉采用硅碳棒作为发热元件,铂铑热电偶测温,精密程序控温仪+可控硅移相调压,最高温度1400℃,控温精度为±1℃;主体反应炉同时带冷凝收集器,设备外壳为不锈钢双层水冷结构,具低水压保护功能。
整个加热收集系统采用真空密封,空炉真空度达10Pa。
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公司基本资料信息
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本真空冶金炉由主体反应炉(带冷凝收集器)、真空系统、电控柜及相关联接组成。
主体反应炉采用硅碳棒作为发热元件,铂铑热电偶测温,精密程序控温仪+可控硅移相调压,最高温度1400℃,控温精度为±1℃;主体反应炉同时带冷凝收集器,设备外壳为不锈钢双层水冷结构,具低水压保护功能。
整个加热收集系统采用真空密封,空炉真空度达10Pa。