管式炉

应用领域
RCVD系列真空气氛管式炉广泛用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制，试验用碳纤维碳化、晶体硅板镀膜、纳米氧化锌结构可控生长等等，也可用于金属材料的扩散焊接及真空或气氛保护下的热处理。
主要特点
采用精炼石英管或高纯高于管作为炉膛，可拆卸的密封方式，具有良好的洁净度和真空度，耐火保温材料全部采用先进的轻质纤维制品，整机质量轻、低能耗。加热元件采用优质硅钼棒、硅碳棒或进口电阻丝；温度控制系统采用原装进口智能多段程序温度控制仪控制，具有良好的稳定性、均匀性。