工业金相显微镜 GX400(上海光学仪器厂 上光新光学)

无限远光学系统，带同轴落射照明和偏光装置，大平台和升降立柱适宜高大试样，可用于大工件金相检测,电子行业大面积硅晶圆,PCB和LCD等。

●  三目五孔：50×-500×,带分划目镜和测微尺.

●  广角大目镜WF10×/22, 无限远平场物镜5×,10×,20×,50×.

●  仪器基座300*240mm,机械载物台250*200mm,移动100*100mm.

●  升降范围120mm,同轴粗微动调焦≥30mm,微调1µm.

●  同轴落射照明,可变孔径和视场光阑,内切换偏光装置.

选配：物/目镜,暗视野,微分干涉,图像系统,压平机,金相制样设备.

配置明暗场物镜和明暗场照明系统，提高了显微镜的分辨率和物像反差，减少眩光干扰，对试样中的某些不可见夹杂物、透明颗粒、晶界晶粒和固有色彩均能明晰地显现及进行对比、评级等。

配置微分干涉相衬系统，通过干涉光路的折射使被观察物产生立体浮雕效果，突出相对层次关系，更清晰地辨别试样中看不到的或难于判别的一些结构细节或缺陷，DIC相衬图像清晰，干涉均匀，浮雕感强。

并以DIC微分干涉相衬系统，使暗视野下的清晰图像，通过干涉光路的折射使被观察物产生立体浮雕效果，突出相对层次关系，清晰地辨别试样中看不到的或难于判别的一些结构细节或缺陷，更具有立体浮雕感，DIC相衬图像清晰，干涉均匀和浮雕感强。